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2025年8月3日-8日，第21屆晶體生長與外延國際會議（21st International Conference on Crystal Growth and Epitaxy）在中國西安成功舉辦。
本次大會百銳公司研發(fā)團隊在集團首席專家張昌龍教授的帶領(lǐng)下參加了此次會議，并與人工晶體領(lǐng)域的優(yōu)秀科研人員相互學(xué)習(xí)和交流。
公司研發(fā)工程師趙煒迪作了題為“Research on HighQuality Domain Inversion Fabrication in Hydrothermal PPKTP Crystals”的口頭報告，介紹了公司在周期極化晶體方面取得的最新突破。此次參會，不僅有效宣傳了我院在晶體領(lǐng)域的研究成果，也加強了與國際同行的聯(lián)系，為未來開展更深入的國際合作奠定了良好基礎(chǔ)。
作為該領(lǐng)域規(guī)模最大、歷史最悠久、學(xué)術(shù)水平最高的國際會議，ICCGE每三年舉辦一次，是世界各國科學(xué)家、工程師和產(chǎn)業(yè)界人士交流最新研究成果、探討技術(shù)發(fā)展趨勢、建立合作的重要平臺。本屆大會吸引了來自全球二十多個國家地區(qū)的500余名專家學(xué)者和業(yè)界代表參會。會議圍繞晶體生長理論、模擬、新技術(shù)、新材料、外延工藝、表征技術(shù)等領(lǐng)域的應(yīng)用等議題，通過大會報告、邀請報告、口頭報告、海報展示等多種形式，展開了廣泛而深入的交流，充分展現(xiàn)了當(dāng)前國際晶體生長與外延研究的前沿動態(tài)與蓬勃活力。
